Denna utrustning är designad för laminering och ånga-avsätta substrat, binda samman de övre ochnedre substraten under vakuumförhållanden. Vakuumsystemet har kraftfull pumpkapacitet, snabb vakuumåtervinning och utmärkt vakuumprestanda. Maskinen är extremt enkel att använda och underhålla och har en attraktiv design. Den används främst i hög-slutströmsanordningar, akusto-optiska modulatorer, MEMS-sensorer, infraröda detektorer och andra applikationer.
Deoxygenation och Anti-Oxidation: När metaller värms upp och pressas i luft, ett tätt oxidskikt (såsom Al2O3) bildas omedelbart på ytan. Detta lager fungerar som en isolator, hindrar atomär diffusion och leder till kalla fogar eller ökat elektriskt motstånd. En vakuummiljö eliminerar helt syre och håller metallytan kvar “aktiv” och möjliggöra en direkt metallurgisk bindning mellan metaller. Förbättrad vätning: Vakuummiljön minskar gasadsorptionen på materialytan, vilket förbättrar flytbarheten och vätbarheten hos kristall- eller metallytan, vilket resulterar i en tätare bindning med färre hålrum. Speciella processkrav: För kisel-till-kisel direktbindning (t.ex. MEMS-tillverkning) eller vissa sammansatta halvledare, atomära-nivågittermatchning kan endast uppnås under ultra-höga vakuumförhållanden; detta kan inte åstadkommas i en konventionell miljö.
| Ultimat vakuum |
5x10⁻⁴ Pa |
| Vakuumåterställning |
Evakuera från atmosfärstryck till 8×10⁻⁴ Pa in ≤25 minuter |
| Kammarens inre diameter |
∅550 mm |
| Resistiva förångningselektroder |
Två enheter, 5 kW vardera, med förmåga till samtidig eller separat förångning |
| Molekylär pump |
FF-250 molekylär pump |
| Strömförsörjning |
3-fas 220 V/380 V, 50 Hz |
| Kraft |
Cirka 25 kW |
| Hydraulsystem |
7–16 MPa |
| Total vikt |
Cirka 1 200 kg |
| Huvudenhetsmått |
850 x 2200 x 2000 (B x D x H) |
| Produktapplikationer |
Acousto-optiska modulatorer, lasrar etc. |
| Vattenförsörjning |
Industriellt avhärdat vatten, vattentryck: 0,2–0,6 MPa, vattenförbrukning: cirka 20 L/min |
| Gasförsörjning |
0,4–0,6 MPa |
