Λεπτομέρειες προϊόντος
Χρησιμοποιείται κυρίως για ψεκασμό μετάλλων, μη-μεταλλικά υλικά ή κράματα. Οι επικαλύψεις που προκύπτουν παρουσιάζουν εξαιρετική πρόσφυση, πυκνότητα και αναπαραγωγιμότητα, καθιστώντας το ιδανικό εξοπλισμό για ερευνητικά ιδρύματα, πανεπιστήμια και επιχειρήσεις που ασχολούνται με την έρευνα υλικών και την κατασκευή εξαρτημάτων ακριβείας.
Υποθέσεις εφαρμογής προϊόντων
Βασικές Τεχνικές Προδιαγραφές
| Μοντέλο και Διαστάσεις | ZZS-550Β | ZZS-800Β | ZZS-300Β | ZZS-1550Β | ZZS-1800Β | ZZS-2050Β | ZZS-2350Β | ZZs-2700Β |
| Διαστάσεις (mm) | 550xH680 | 800x900 | 1300xH1500 | 1550xH1700 | 1800xH1800 | 2050xH1500 | 2350xH1500 | 2700xH1850 |
| Κατασκευή | Όρθιο, μπροστά-άνοιγμα, ανοξείδωτο 304 | |||||||
| Ταχύτητα περιστροφής | 0–30 σ.α.λ (μεταβλητή-έλεγχος ταχύτητας συχνότητας) | |||||||
| Ταχύτητα άντλησης | Από ατμοσφαιρική πίεση στο 3,0×10⁻³ Πα μέσα ≤15 λεπτά (χωρίς φορτίο) | |||||||
| Ultimate Vacuum | 3,0x10-4 P | |||||||
| Εξάρτημα | Κέντρο-τοποθετημένο περιστρεφόμενο πλαίσιο ομπρέλας, μονό-κομμάτι ή σχίσιμο-τύπος | |||||||
| Σύστημα Θέρμανσης | Θωρακισμένη θερμάστρα, ρυθμιζόμενη από θερμοκρασία περιβάλλοντος έως 350°Γ | |||||||
| Σύστημα κενού | Χαμηλό-σετ αντλίας κενού + ψηλά-αντλία κενού + κρυογονική παγίδα | |||||||
| Σύστημα Ελέγχου | Βιομηχανικό σύστημα ελέγχου + οθόνη αφής + PLC, ενσωματωμένο εγχειρίδιο/αυτόματο έλεγχο | |||||||
| Σύστημα Παροχής Αερίου | Έλεγχος μετρητή ροής μάζας | |||||||
| Σύστημα επίστρωσης | Πηγή εξάτμισης με αντίσταση + ηλεκτρονικό όπλο + πηγή ιόντων | |||||||
| Σύστημα ελέγχου πάχους επίστρωσης | AR, UV/Φίλτρα κοπής υπερύθρων, AF, αντι-ανακλαστικές επιστρώσεις, διακοσμητικές επιστρώσεις, φίλτρα ζώνης, επιστρώσεις HR κ.λπ. |
|||||||
| Εφαρμογές επίστρωσης | Infocare | |||||||
| Τροφοδοτικό | Τρεις-φάση πέντε-σύρμα 220/380V 50Hz; εύρος διακύμανσης τάσης: τρία-φάση 242–399V, μονό-φάση 198–231V; Εύρος διακύμανσης συχνότητας: 49–51 Hz | |||||||
| Παροχή νερού | Βιομηχανικό μαλακωμένο νερό; πίεση νερού: 0,2–0,6 MPa; θερμοκρασία νερού εισόδου ≤25°Γ | |||||||
| Παροχή Αερίου | 0.4–0,6 MPa | |||||||
Προηγούμενος: Οχι άλλο
Επόμενος: Σύστημα επίστρωσης οπτικού μαγνητρονίου